（原标题：台积电押注EUV，不绝领跑芯片制造）

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尽管台积电不可宣称我方是第一家使用极紫外 (EUV) 光刻技能的晶圆厂（这一头衔属于三星），但他们照实不错宣称我方是最大的晶圆厂。因此，该公司多年来在 EUV 方面蓄积了丰富的训戒，使台积电大致校阅使用 EUV 器具的阵势，以普及坐褥率/平常运行时辰，并缩短使用超致密器具的本钱。算作该公司本周欧洲技能研讨会的一部分，他们更详备地先容了 EUV 使用历史，以及进一步将 EUV 集成到改日工艺节点的阐扬。

当台积电于 2019 年运行在其 N7+ 工艺（用于华为海念念）上使用 EUV 光刻制造芯有顷，它占据了各人 EUV 器具安设基数的 42％，即使 ASML 在 2020 年加多了 EUV 光刻机的出货量，台积电的 EUV 份额安设量践诺上加多到了 50%。到 2024 年，台积电的 EUV 光刻系统数目将比 2019 年加多 10 倍，尽管三星和英特尔王人在普及我方的 EUV 产量，但台积电现在仍占各人 EUV 安设基数的 56%。不错说，台积电很早就决定扬弃抨击 EUV，因此他们今天仍然领有 EUV 光刻机的最大份额。

值得提防的是，台积电的EUV晶圆产量增幅更大；台积电现在坐褥的 EUV 晶圆数目是 2019 年的 30 倍。与器具数目仅加多 10 倍比拟，台积电产量增长了 30 倍，突显了台积电若何大致普及 EUV 坐褥力、减少办事时辰和减少器具停机时辰全面的。彰着，这一切王人是通过公司里面竖立的鼎新技能完结的。

台积电示意，自 2019 年以来，其 EUV 系统的日晶圆产能已普及两倍。为此，该公司优化了 EUV 曝光剂量过甚使用的光刻胶。此外，台积电大幅校阅了 EUV 光罩的薄膜，使其寿命普及了四倍（即加多了平常运行时辰），将每个薄膜的产量普及了 4.5 倍，并将劣势率大幅缩短了 80 倍（即普及了坐褥率并加多了平常运行时辰）。出于不言而谕的原因，台积电莫得清爽它是如若何此显著地校阅其薄膜技能的，但也许跟着时辰的推移，该公司的工程师将与学术界共享这少量。

EUV 光刻系统也因其功耗而恶名昭著。因此，除了普及 EUV 器具的坐褥截止外，该公司还通过未公开的“鼎新节能技能”，将 EUV 光刻机的功耗缩短了 24%。该公司还莫得就此扫尾：他们筹办到 2030 年将每个 EUV 器具每个晶圆的动力截止普及 1.5 倍。

考虑到台积电现在已通过低数值孔径 EUV 光刻技能完结的通盘校阅，该公司对改日大致不绝坐褥顶端芯片充满信心也就不及为奇了。尽管竞争敌手英特尔已在其改日的 18A 以下节点中全力罗致高数值孔径 EUV，但台积电正在寻求诓骗其高度优化且过程时辰锻真金不怕火的低数值孔径 EUV 器具，以幸免主要技能的潜在陷坑如斯快的过渡，同期还赢得了使用练习器具的本钱效益。

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